Сильным основанием среди NH4OH, Cu(KH)2 и KOH является KOH, так как он делится на ионы K+ и OH-, обеспечивая высокую щелочность. NH4OH (аммиачный гидроксид) является слабым основанием из-за его относительно низкой ионизации в растворе. Cu(KH)2 (гидроксид меди(II)) тоже является слабым основанием. KOH, с другой стороны, является сильным основанием, способным полностью диссоциироваться и обеспечивать большое количество OH- ионов в растворе.
Задача Задача №1079292
А
А